第518章 有数了

而陈云邦他们前期做出的这些单点突破最终都被整合进了新一代光刻机的整体设计中。

高长平给这台机器申报的型号是FEL-3000。

这台最新的光刻机采用了肖宿提出的自由电子激光器阵列方案，将原有的深紫外光源替换成了多束相干合成的短波长自由电子激光器，单次曝光分辨率从之前的38纳米直接推进到了13纳米级别，已经追平了国际上最先进的极紫外光刻机的理论分辨率极限了。

而得益于全局协同优化框架的作用，FEL-3000的套刻精度已经达到了3纳米，比目前全球光刻机市场占有率最高的EUV光刻机还低了一半。

整机功耗也因为省去了锡等离子体光源的庞大冷却系统，比同等规格的极紫外光刻机低了近三分之一。

量产方面，在稳定工况下，FEL-3000的每小时晶圆产出量已经突破了250片，比国际主流机型还高出了将近百分之二十。

而这样的成效带来的影响也是巨大的，自从FEL-3000的数据公布之后，全球半导体行业的格局几乎在一夜之间就被全部重写了。

以前是华国的芯片制造商排着队等国外的光刻机，现在全部反过来了，好几家国际顶级芯片代工厂的采购副总裁都需要直接飞到京城来谈合作，就这样，还不一定能排上号呢。

高长平手边那份最新的销售报告上就写着，FEL-3000的订单已经排到了后年了，全球前十大半导体制造商里有六家都签了采购意向书，光是预付定金就收了好几十个亿了。

曾经在光刻机领域不可一世的垄断巨头，面对FEL-3000的价格优势和性能优势，市场份额被迅速蚕食，股价也跌得惨不忍睹，据说已经紧急启动了新一代EUV的研发计划。

不过，就高长平他们团队研究，以他们目前的技术，要想追上FEL-3000的水平，至少需要好几年的技术积累。

高长平站在FEL-3000的总装线旁边，看着眼前那台银灰色外壳、线条极其简洁的庞然大物，脸上不由自主的露出的骄傲的笑容，这台机器可以说是截至目前，他人生最伟大的成就了。

哪怕有一天他死去，人类向前狂奔的路上，也终会有人记住他的贡献，哪怕这点贡献和整个人类的发展比起来微不足道。

雁过留声，人死留痕。

他没白活。

不过，看着看着他心里又难免忐忑起来。

他知道肖宿对于技术成果的评价标准向来是极其严苛的，起码从高长平认识他以来，还没看肖宿对什么成果露出过满意的表情。

FEL-3000虽然已经做到了全球领先了，但在肖宿眼里，恐怕只是一个还算能看的阶段性成果吧。

想到这儿，高长平脸上的笑容都消失了，连忙让助手小汪又整理了一遍材料，可不能在肖宿面前丢脸了。

肖宿到的时候，高长平已经带着付培和几个核心工程师在实验基地门口等着了。

由于肖宿这次来得突然，陈云邦院士刚好在外地参加一个学术会议赶不回来，所以这次由付培来负责技术介绍。

付培是光刻专项光源子系统的负责人，之前在光源相干性补偿方案的攻关中表现极其出色，对FEL-3000的整个光源架构了如指掌。

“肖教授，这边请。”

付培侧身引路，一行人在他的带领下走进了FEL-3000的总装车间。

车间里恒温恒湿，超净环境的气流从头灯送风单元匀速压下，空气里弥漫着精密机械特有的冷冽金属味。

FEL-3000的整机被半透明的防静电罩覆盖着，只露出了核心工作区的观察窗。

透过观察窗可以看到环形排列的自由电子激光器阵列，每台激光器的出射口都连着独立的光程补偿器和波前整形器，光束经过物镜系统汇聚到工件台上的晶圆表面。

整个系统在运转的时候几乎听不到传统光刻机那种沉重的机械噪音，只有自由电子激光器发出的极细微的高频脉冲声，以及工件台在气浮导轨上匀速滑行时偶尔发出的一两声极轻微的换向摩擦音。

付培一边走一边介绍，语速不紧不慢，但是在提到核心技术指标的时候明显加重了语气：

“目前我们的FEL-3000在稳定工况下，单次曝光分辨率已经稳定在13纳米了，套刻精度也做到了3纳米以内，产率每小时250片以上。

而自由电子激光器阵列的波前相干合成效率则达到了百分之九十五，单个光源的波长可以从深紫外一路连续调谐到软X射线波段。

这套架构的扩展性也很好，下一步如果继续优化激光器阵列的排布拓扑和波前控制算法的话，分辨率还有进一步下探的空间。”

肖宿听着付培的介绍，目光从自由电子激光器阵列扫到物镜系统，再从工件台的位移监测界面上一一扫过，偶尔微微点一下头。

这些数据确实比上次看到的时候好了很多。

FEL-3000的波前相干合成效率做到百分之九十五，说明谱域对消框架在光刻系统中的应用是成功的。

而套刻精度压到3纳米以内，也说明全局协同优化框架把光源、物镜、工件台三个子系统的耦合误差控制得很好。

这些数据放在全球任何一家光刻机制造商那里，都足够开一场庆功宴了。

不过对于肖宿来说，这些还不够。

正如他之前所想的那样，光刻机的突破不等于量子芯片的突破。

FEL-3000的芯片工艺确实能把线宽做到十几纳米级别，这个精度对传统集成电路来说是够用的，甚至可以说是过剩的。

但是，对于量子芯片来说，关键指标不是线宽，而是超导薄膜的界面缺陷密度、约瑟夫森结的隧穿势垒均匀性、以及量子比特和周围环境的电磁隔离度。

这些指标就目前来看高长平他们是明显做不到的，所以肖宿还需要从材料制备到器件加工的整条工艺链做针对性的优化，仅仅靠一台先进的光刻机是解决不了所有问题的。

了解完所有情况，肖宿心里有数了。


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